Two Flash Mask

Bei der Bildbearbeitung stößt man im Laufe der Zeit unweigerlich auf das Thema Freistellung. Gemeint ist damit, ein Objekt von seinem Hintergrund zu lösen, so dass dieser beliebig variiert werden kann. Gerade Haare oder filigrane Strukturen stellen oft eine große Herausforderung dar, die mit den Bildverarbeitungswerkzeugen wie Lasso und Zauberstab nicht zufriedenstellend gelöst werden kann. Hilfreich ist die Verwendung von Masken, die z.B. in Photoshop über Farbkanäle erzeugt werden können. Eine weitere Möglichkeit ist die Erstellung einer Maske im Doppelblitz-Verfahren. In kurzen Abständen wird zunächst ein Bild des Objekts aufgenommen, gefolgt von einer Aufnahme, bei der der Hintergrund beleuchtet und das Objekt als Silhouette aufgenommen wird. Mit einer kurzen Nachbearbeitung mit Tonwertkorrektur kann aus der Silhouette eine kontrastreiche Maske erstellt werden, die dann als Ebenenmaske für die Freistellung verwendet werden kann. Die so erzielten Ergebnisse sind von höchster Qualität. Bei Verwendung einer elektronischen Blitzweiche können die Intervalle der Aufnahmen deutlich verkürzt werden, so dass auch bewegte Objekte freigestellt werden können. Für meine Arbeit habe ich die Two Flash Mask von Heiland electronic in Kombination mit meinen Yongnuo Speedlite YN600EX-RT Blitzen verwendet. Ein erstes Ergebnis ist unten dargestellt. Hier wurde eine einfache Holzfigur verwendet, die mit der Technik freigestellt wurde. Als Hintergrund wurde eine digitale Berglandschaft verwendet, die in Blender erzeugt wurde. Unten aufgeführt sind die Links zu den verwendeten Produkten.


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Kameramodell Canon EOS 80D; Aufnahmedatum/-zeit 29.04.2017/ 14:12; Tv(Verschlusszeit) 1/50; Av(Blendenzahl) 2.8; Filmempfindlichkeit (ISO) 100; Objektiv EF100mm f/2.8L Macro IS USM; Brennweite 100.0mm; Bildgröße 6000x4000; Bildqualität RAW.